ACM Research představila čisticí systém, který recykluje 70 % použité kyseliny sírové
ACM Research vyrábí zařízení pro výrobu polovodičů. Firma oznámila vylepšenou verzi svého systému Single-Wafer Hot SPM. Ten čistí jednotlivé křemíkové destičky horkou směsí kyseliny sírové a peroxidu. Používá se například k odstranění zbytků fotorezistu (ochranné vrstvy při leptání čipů). Nová verze recykluje 70 % kyseliny sírové.
Podle firmy to ušetří zhruba 400 tun kyseliny sírové ročně na jeden stroj. Po čištění přitom zůstává jen málo nečistot: 15 a méně částic o velikosti od 15 nanometrů. Speciální tryska podle firmy brání usazování krystalů. Komoru proto není nutné pravidelně proplachovat vodou.
Systém byl ověřen u zákazníka, kterým je výrobce čipů na zakázku (foundry), a to na více než 50 výrobních vrstvách. Podle firmy může zlepšit výtěžnost (podíl použitelných čipů) u logických i paměťových čipů a snížit nároky na údržbu.
