Photronics rozšiřuje kapacitu na pokročilé fotomasky v Texasu a Koreji
Photronics vyrábí fotomasky. Jsou to skleněné destičky s vyleptaným vzorem obvodu. Při výrobě čipů a displejů slouží k přenesení vzoru na křemíkovou desku nebo panel. Firma oznámila, že podíl pokročilých polovodičových produktů na jejích tržbách z čipových fotomasek dosáhl v posledním čtvrtletí rekordních 44 %.
Firma rozšiřuje výrobu ve dvou závodech. V texaském Allenu modernizuje linku na masky s rozlišením 65 nanometrů. Dosud tam vyráběla jen na 180 a 130 nanometrech. Novou kapacitu chce spustit do jednoho až dvou měsíců. V Jižní Koreji rozšiřuje závod tak, aby zvládl masky s rozlišením 8 nanometrů. Dokončení očekává přibližně za rok. Cílem je přesunout část výroby z hlavního závodu v americkém Boise. Uvolní tam kapacitu pro náročnější zakázky na 7, 10, 14 a 22 nanometrech. Podíl tržeb z USA je dnes kolem 17 až 19 %. Ve fiskálním roce 2027 by se měl mírně zvýšit.
V Boise firma zatím vyrábí masky až po 7 nanometrů. Pracuje na posunu k 4 nanometrům, ale zatím z toho nemá žádné tržby. Nejpokročilejší technologii EUV (litografie v extrémním ultrafialovém světle) si většina výrobců čipů dělá sama. Photronics ji chce rozvíjet jen postupně a výběrově. Kompletní EUV program by totiž stál kolem 300 milionů dolarů. Vedení očekává, že tržby v příštím čtvrtletí zůstanou zhruba na stejné úrovni nebo mírně vzrostou. Hrubá marže by měla být kolem 33 %.
Cena za sadu masek roste s pokročilostí technologie. U výroby na 90 nanometrech vynese sada zhruba 50 tisíc dolarů. U 14 nanometrů je potřeba 70 až 80 masek a sada vynese kolem milionu dolarů. U 5 nanometrů může jedna sada vynést 10 až 20 milionů dolarů.
